DaiPower®

NGUỒN PLASMA DBD

Green Energy for Eco-Industrial Part

Waster Water - Air Pollution - Surface treatment - Food Poisoning

TẠI SAO PHẢI DÙNG NGUỒN DaiPower®?

Sáng chế

Chi phí thấp

Ứng dụng rộng

IoT, AI

DaiPower® SÁNG CHẾ ĐỘC QUYỀN

Các giải pháp của chúng tôi là phối hợp đồng bộ giữa nghiên cứu chuyên môn trong lĩnh vực cơ điện tử, vật lý, hóa học môi trường xử lý nước và phục vụ.

Mong muốn công nghệ xanh, liên lạc chúng tôi

LIÊN HỆ MUA MÁY

DaiPower® HOẠT ĐỘNG NHƯ THẾ NÀO?

Tạo điện áp cao, tần số lớn

Điện áp cao, tần số lớn được tạo ra khi cho nguồn 220V qua nguồn tạo plasma bao gồm biến áp, bộ chuyển đổi dòng điện AC/DC, bộ tạo xung cao tần, biến tần, biến áp cao tần và buồng plasma.

Ion hóa khí giữa hai điện cực

Dưới tác dụng của điện trường cao, tần số lớn giữa hai điện cực có ngăn cách chống phóng điện, khí bị ion hóa tạo ra môi trường plasma. Tùy vào ứng dụng, buồng plasma được thiết kế phù hợp.

Tùy chỉnh AI và IoT

Hiệu suất nguồn Plasma, nồng độ, thể tích và hình dáng plasma đươc tùy chỉnh tự động hoặc có lập trình trước nhờ lập trình nhúng AI và điều khiển từ xa qua IoT hoặc trực tiếp.

GIẢI PHÁP DaiPower®

Ứng dụng rộng rãi

DaiPower® là nguồn plasma hoàn toàn tự động AI, IoT, cho phép ứng dụng linh hoạt và thay thế nguồn plasma vào các loại máy móc như xử lý nước, khí và bề mặt đã có sẵn hay thiết kế mới.

Dễ dàng lắp ráp, nhỏ gọn

DaiPower® plasma rất nhỏ gọn và có dãy điều khiển rộng nên dễ dàng được tích hợp trong mọi điều kiện không gian nhỏ hẹp và nhu cầu ứng dụng của các loại máy có sẵn trên thị trường.

Thân thiện môi trường

DaiPower® plasma có nguyên lý vận hành tối ưu, đơn giản bảo vệ tối đa bức xạ và sinh nhiệt và vật liệu rất thân thiện môi trường nên an toàn, bảo vệ sức khỏe và tiết kiệm năng lượng.

Độ tin cậy, an toàn cao

DaiPower® plasma sử dung công nghệ hiện đại độc quyền, hệ thống được điều khiển tự động các tham số điều khiển có phản hồi kín kết hợp IoT và AI nên có độ an toàn, độ ổn định và độ tin cậy của quy trình ứng dụng rất cao.

Hiệu quả cao

DaiPower® được nghiên cứu độc quyền công nghệ động lực học plasma với dãy điều khiển rộng, thể tích plasma lớn, đều và đậm đặc nên hiệu quả xử lý rất cao, xử lý được tốc độ cao, và ngay lập tức trong lúc yêu cầu hiệu suất thay đổi.

Chi phí thấp

DaiPower® plasma có chi phí đầu tư ban đầu thấp và dễ thích hợp vào hệ thống hiện có. Đặc biệt chi phí sản xuất, vận hành, và bảo trì rất thấp và không ô nhiểm môi trường, theo dỏi và điều khiển từ xa.

Mong muốn công nghệ xanh, liên lạc chúng tôi

LIÊN HỆ MUA MÁY

NGUỒN DaiPower® và CÔNG NGHIỆP PHỤ TRỢ

CUNG CẤP DaiPower®

CES Plasma cung cấp toàn diện nguồn plasma DIY cho các nhà máy sản xuất máy móc thiết bị dùng nguồn plasma và các trung tâm dịch vụ vận hành, bảo trì và sửa chữa máy có ứng dụng plasma. CES Plasma nhận thiết kế và chế tạo các bộ nguồn plasma theo yêu cầu khách hàng như trung tâm, viện nghiên cứu, cở sở giáo dục và nhà máy, khu công nghiệp. CES Plasma cũng cung cấp giải pháp, cho thuê máy, vận hành, bảo hành và bảo trì máy.

DaiPower® là nghiên cưu độc quyền về plasma với vi xử lý hiện đại, công nghệ xanh, nhỏ gọn, modun hóa thích hợp IoT và AI. DaiPower® thích hợp cho tất cả các loại ứng dụng, đăc biệt chú trọng hàng đầu vào máy móc ứng dụng công nghệ cao với tiêu chí an toàn, sức khỏe, bảo vệ môi trường.

DICH VỤ PHỤ TRỢ

CES Plasma cung cấp một phổ rộng các dịch vụ công nghiệp hỗ trợ công nghệ nguồn plasma tiên tiến nhất hiện nay. Ngoài ra CES Plasma còn phát triển nguồn riêng cho dự án cụ thể và cung cấp thiết bị xử lý. Với chuyên gia đầu ngành Plasma lạnh và đội ngũ kinh nghiệm nghiên cứu ứng dụng và liên ngành đa quốc gia nhóm CES Plasma sẵn sàng phục vụ quý khách hàng.

Tùy vào các nghiên cứu ứng dụng plasma, DaiPower@ plasma cung cấp các dịch vụ kỹ thuật để xác định tính phù hợp của nguồn plasma của chúng tôi đối với từng yêu cầu của khách hàng. Tùy vào từng ứng dụng, xử lý bề mặt, tiệt trùng không khí, xử lý môi trường...và tùy vào các khí làm việc, áp suất khí, các sản phẩm hóa học plasma, độ rộng khe hở, vật liệu điện cực, các chỉ số quan trọng của khách hàng đều sẽ được xem xét để tạo ra bộ nguồn tốt nhất đáp ứng nhu cầu và đặc điểm kỹ thuật của khách hàng.

ÁP DUNG NGUỒN DaiPower® PLASMA ?

Công-Nông nghiệp

Plasma được ứng dụng hiệu quả và rộng rãi trong làm sạch và tăng hấp thụ bề mặt trước khi hoàn thành bề mặt. Phủ nano bề mặt cũng thành công lớn khi áp dung plasma. Xử khí khí, nước, tiệt trùng bảo quản và kích thích hạt giống cây trồng trong nuôi trồng và bảo quản nông nghiệp bằng plasma đã đánh dấu việc ứng dung công nghệ cao thành công trong nông nghiêp.

Môi trường-Thực phẩm

Úng dụng plasma trong xử lý nước thải công nghiệp, y tế và làng nghề mang lại lợi ích đột phá. Plasma dùng xử lý nước nuôi trồng thủy sản, nước tiệt trùng rau củ quả và cả nước uống. Tiệt trùng không khí và làm sạch khí thải, mùi hôi thối và khí độc cũng được áp dụng bởi plasma. Làm sạch và bảo quản thực phẩm và rau củ quả đạt hiệu quả cao cũng nhờ công nghệ plasma.

Nghiên cứu-Giáo dục

Bắt nguồn từ yêu cầu ứng dụng Plasma trong nghiên cứu như hiện tượng ion hóa, điều kiện tạo plasma, nồng độ plasma, thể tích và hình dạng plasma cũng như động lưc hoc plasma, điện trường, tần số và biên dạng sóng, CESPLASMA nhận thiết kế và chế tạo bộ nguồn theo nhu cầu ứng dụng của khách hàng. Trường đại học có nhu cầu nguồn plasma trong giáo dục xin liên hệ.

QUY TRÌNH NHẬN DỰ ÁN

Nhận đơn hàng qua Web, email, điện thoại,..
Khảo sát, tối ưu quy trình - Đo và trả kết quả 1-2 tuần.
Ký hợp đồng, chuyển khoản 40%.
Lắp ráp sau 1-2 tuần ký hợp đồng.
Chạy test máy, lấy chứng nhận kết quả ra sau 2 tuần, chuyển khoản 50%.
Làm hồ sơ 3-6 tuần.
Bảo hành, bảo trì miễn phí 1 năm, chuyển khoản 10%.

Mong muốn công nghệ xanh, liên lạc chúng tôi

LIÊN HỆ MUA MÁY

GIỚI THIỆU DaiPower®

||| HÌNH DÁNG VÀ NGUYÊN LÝ

Tùy ứng dụng cụ thể, hình dáng và công suất nguồn plasma được thiết kế tối ưu. Hiện nay, CESPLASMA có hai dạng chính là dạng tủ điện kích thước 30x30x20mm Inox, 200-2000W và dạng DIY thích hợp với từng loại máy cụ thể.

Nguồn Plasma lạnh điện áp cao hơn 10KV, tần số cao hơn 45KHz được điều khiển bằng bộ vi xử lý, và IoT được nhiều trường đại học, viện nghiên cứu và ngành công nghệ cao ứng dụng để tạo ra vùng plasma đều ở áp suất thấp, không có nhiệt. Vùng plasma, khoảng cách đến bề mặt xử lý và năng lượng xử lý phụ thuộc vào tải, thiết kế của buồng plasma và cài đặt điện áp, tần số. Nói chung, tần số trong khoảng vài chục đến vài trăm Nano giây; khe hở từ 3 - 5 mm; diện tích vùng plasma 5-100m2. Chúng tôi cũng cung cấp buồng plasma hoặc điện cực cho tất cả các loại buồng plasma và cho tất cả các ứng dụng.

||| ĐẶT TÍNH VƯỢT TRỘI

Hiệu quả xử lí cao, tương thích tất cả các loại máy sử dụng Plasma trên thị trường.
Chi phí đầu tư ban đầu và chi phí vận hành bảo dưỡng thấp.
Hệ thống vô cùng nhỏ gọn, dễ lắp đặt, được thiết kế theo module nên công suất phù hợp với từngứng dụng.
Hệ thống tự động hóa hoàn toàn, AI va IoT tự động hoàn toàn, điều kiển qua điện thoại.
Thiết kế nhỏ gọn, công nghiệp và hiệu quả.
Đội ngũ kỹ thuật viên giàu kinh nghiệm hộ trợ tốt nhất cho công tác bảo dưỡng, kiểm tra định kỳ.